NexION 2000 ICP-MS 评估水样中锶双电荷对钙的影响 App Note(300005_CHN_01)
- 上传人: 珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司 |大小:466.01KB|浏览:1289次|时间:2019-01-14
- 文档简介
- 相关产品
- 您可能感兴趣的资料
-
200 ml sample (measuring cylinder; for chlorine concen
-
Particle Metrix应用于胶体中电荷滴定分析
-
用离子电荷检测蛋白质的溶解性
-
利用HPLC ICP-MS一次性分析环境水样中的各种砷和铬化学
-
FT-IR成像法对富士山大气污染的评估
-
UHPLC-TOF分析河水样品中的药物及个人护理产品
-
使用 ELAN DRC-e 电感耦合等离子体质谱仪对环境水样进行干扰消除与分析
-
海水样品中的TOC检测
-
在线固相萃取-GX液相色谱法分析水样中的敌草快和百草
-
在线固相萃取-GX液相色谱法测定饮用水和环境水样中苯
利用ICP-MS检测痕量钙(Ca)一直是一个难点,由于Ca自然丰度Z高的同位素(96.9%)为40Ca,与40Ar为同质异位素,使用常规方法无法测定。所以,通常对Ca进行检测的标准方法中推荐的质量数,U.S.EPA200.8为43;国内HJ700-2014为44,测定下限为26.4μg/L。而43Ca和43Ca的自然丰度分别仅有0.14%和2.1%,在测定过程中由于灵敏度较低,且干扰消除不完全,容易导致检出限偏高、结果精密度差等缺点。
NexION2000ICP-MS的通用池技术可以使用各种高纯高反应性气体对质谱干扰进行去除,对于40Ca,可以使用1**%纯氨气(**电离能10.16eV)对40Ar(**电离能15.76eV)进行去除,获得亚ppb级的检出限。这得益于NexION2000可以调谐和优化通用池四极杆的RPq参数,使得高反应性气体的各种副产物干扰被彻底去除。
40Ar+ + NH3 → 40Ar + NH3+
ΔHr = ΔIP = -15.76 eV+10.16 eV = -5.60 eV ( 放热,反应自发进行)
标签: