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真空镀膜稳定性与均匀性研究

上传人: 上海科学仪器有限公司 |大小:1.49MB|浏览:568次|时间:2018-06-23
真空镀膜稳定性与均匀性研究
文档简介

真空镀膜的质量受多种因素的影响,镀膜工艺参数等诸多要素直接影响到真空镀膜的稳定性与均匀性。本文以真空蒸发镀膜和PECVD法为例,详细分析了影响镀膜稳定性与均匀性的工艺问题,希望对于实际真空镀膜工作质量的提供有所启发和帮助。
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