制样设备

地面前馈控制； 无需气动装置； 主动减振起点<2Hz。

日立ZONE系列电镜样品清洗仪可以利用臭氧和紫外线对电镜样品表面的污染物进行清洗，尤其是碳氢化合物类污染物，且不会损伤样品，有效的提高电镜的观察效果，还原材料的真实形貌。

产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。

-程序控制间歇式加工； -通过制冷功能可以对受热易损伤的样品进行加工。

系统采用触摸屏自动控制，用户自定义操作方案；GX冷却，一次灌装液氮后系统运行时间可达一整天，期间无需补加液氮；广泛的自动操作：自动抽真空、自动升华、自动低电压冷溅射镀膜等。

产品简介GloQube 辉光放电处理机英国GloQube辉光放电处理机（又称辉光放电清洁系统，用于TEM铜网处理等），典型应用包括但不限于:带有碳支持膜的TEM铜网及粘附核酸的碳膜从疏水改性成亲水;

IDE MK-5低频主动消磁系统是专为精密设备消除低频振动的系统，设备主要由传感器、控制器、亥姆霍兹笼以及电缆组成。一般会将精密设备“关”进笼子，通过反向磁场抵消起到屏蔽外界磁场干扰的效果。

产品简介德国IDE PAD系列主动隔振台IDE PAD系列低频主动隔振平台，是专为精密设备消除低频振动的平台。PAD系列主动隔振台一般放在地面上，从而将精密设备从地面隔离出来，起到隔振效果。产品特点

Q150R ES PLUS标配可互换的溅射插入头及碳丝蒸镀插入头，集两种功能于一体。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品。这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，...

Q150T ES PLUS集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的...

产品简介Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪Q150V Plus为高真空镀膜应用做了优化设计，限真空度可达1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形

产品简介K750X冷冻干燥仪：Peltier制冷型，-60℃

产品简介K850 临界点干燥仪垂直腔室，在CO2临界状态下干燥样品，为生物等类型的“湿”样品电镜观察前的常用预制样仪器

日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量，并制备广域横截面样品。