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AMP - 无掩模曝光机价格：面议- 品牌： 美国IMP
- 型号：SF-100XCEL/SF-100XPRESS
- 产地：美国
产品简介产品优点微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽) 紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。可
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美国IMP
美国IMP（Intelligent Micro Patterning, LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光专利技术，已成为无掩模紫外光刻领域的领导者。
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