PVA TePla America - 等离子表面清洗系统 核心参数
| 自动化: | 自动 |
详细介绍
产品简介
| 全新! |
| INLINE高产量PECVD系统 (Inline High Capacity PECVD Systems) |
| ILHC是一个连续的高速真空等离子系统。它提供了等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)，蚀刻，清洗和活化在高生产环境全过程控制。 ILHC是为了满足广大客户的高产能量的要求。它提供了快速的工艺处理时间，卓越的均匀性和精确的厚度控制。它提供先进的过程控制，故障安全报警和完整的数据采集和报告软件系统。 ILHC使用射频(RF)产生的等离子体，结合独特的传送系统中清楚地阐明和完全集成封装。该设计便于安装和维护。 |
| 特性: • 连续流处理 |
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 可进行多种类界面 |  * 输出功率高达 ： 每月500,000 devices （基本尺寸 ：1” x 1” Devices） |  * 根据界面的形状： 非均匀性降低至5% |
| RF 射频等离子清洗/镀膜系统 |
| IoN 3B |
| 特性: 腔室尺寸(W x D x H): 140mm x 200mm x 110mm |
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| IoN 7B |
| 特性: 腔室尺寸(W x D x H): 200mm x 220mm x 160mm |
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