光刻/涂布

产品简介NILT主要产品包括:- 热压和紫外压印服务- 纳米压印模版- 纳米压印设备热压和紫外压印服务高分子聚合物中间层压印技术可以实现纳米压印/热压印非平面化的压印，同时高分子聚合物中间

产品简介产品优点微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽) 紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。可

品简介​

品简介SUEX/SUEX Plus/ADEX干膜光刻胶- 总处理时间：小于5分钟- 卓越的厚度均匀性， 边缘无光刻胶堆积- 高热稳定性-高韧性- 无锑化学环境，无材料浪费 

品简介Microchem的产品分类: Application Note (pdf) SU-8 2000 and 3000 series ResistsKMPR 1000 Photo

IL -根据客户的订单要求进行加工 -优于20纳米的精度 -结构周期底至40nm -适用于热压和紫外压印 -设计制造适用于所有纳米压印设备的模板

#13; NILZL产品 小型纳米压印机 产品简介: Process is controlled by a programmable PLC with touch

#13; MICROCHEM SU-8 负性化学放大胶 高深宽比，亚微米分辨率,侧壁陡直 适合I-line，宽光谱,电子束，X射线曝光 热稳定性>300C

MPR为负性光刻胶，具有与SU-8光刻胶相同的侧壁效果与深宽比，易于去除。一般常用于MEMS,电铸，DRIE等。

#13; LOR 双层Lift-off专用光刻胶。 高分辨，可用于

#13; SUEX 干膜光刻胶(TDFS) 厚膜、适用于MEMS制作与封装 选择干膜的优势 使用方便，只需几分中便可压膜完成开始使用 无需去边 卓越的

、高速、高分辨率；2、可调试；3、耐干程度优于PMMA。

、低温