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快速热化学气相沉积系统(RTCVD)价格：面议- 品牌： 韩国ECOPIA
- 型号：RTCVD
- 产地：韩国
速热化学气相沉积系统 (RTCVD)生产商：韩国EcopiaRTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和制备。性能和特点：- 温度范围：室温 ~ 1500°C
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低压化学气相沉积系统(LPCVD)价格：面议- 品牌： 韩国ECOPIA
- 型号：LC-100, LC-102
- 产地：韩国
压化学气相沉积设备(LPCVD)产地：韩国Ecopia；有单管和双管两个不同的型号，用于科研或者小规模生产。性能和特点： - 温度范围：500 ~ 1000摄氏度；- 气体混合能力(带有质量流量计)；
