关于匀胶机速度

      匀胶转速是匀胶过程中Z重要的因素。基片的转速（rpm）不仅影响到作用于光刻胶的离心力，而且还关系到紧挨着基片表面空气的特有湍动和基片与空气的相对运动速度。光刻胶的Z终膜厚通常都由匀胶转速所决定。尤其在高速旋转这个阶段，转速±50rpm这样微小变化就能造成Z终膜厚产生10%的偏差。

        膜厚在很大程度上是作用于液体光刻胶上﹑方向朝基片边缘的剪刀力与影响光刻胶粘度的干燥（溶剂挥发）速率之间平衡的结果。随着光刻胶中溶剂不断挥发，粘度越来越大，直到基片旋转作用于光刻胶的离心力不再能使光刻胶在基片表面移动。到这个点上，胶膜厚度不会随匀胶时间延长而变薄。所有MYCRO WS-650Mz-23NPPB匀胶机规格要求在量程范围内无论选择哪个速度匀胶转速偏差不大于±1rpm。而通常实际偏差是±0.2rpm。而且，所有的控制程序和转速显示的分辨能力都是1rpm。