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湿法显影腐蚀机价格:面议
- 品牌: 美国劳瑞尔
- 型号:EDC-650Hz-15NPPB
- 产地:美国
(1)外观整洁、美观,占地面积小,节省超净间的使用面积; (2)VoD顶盖阀门控制技术 避免二次污染; (3)显影腐蚀液独立的试剂供给管路; (4)处理腔内差压极ng准控制; (5)满足2英寸...
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湿法腐蚀机价格:面议
- 品牌: 美国劳瑞尔
- 型号:EDC-650Hz-8NPPB
- 产地:美国
湿法腐蚀机特点: (1)外观整洁、美观,占地面积小,节省超净间的使用面积; (2)VoD顶盖阀门控制技术 避免二次污染; (3)显影腐蚀液独立的试剂供给管路; (4)处理腔内差压极ng准控制;...
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匀胶显影机价格:面议
- 品牌: 美国劳瑞尔
- 型号:EDC-650Mz-23NPPB
- 产地:美国
胶显影机(英文名:Developing) 产地:美国一、产品概述: 650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般
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显影腐蚀系统技术资料
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湿法显影腐蚀机
适用工艺(包括但不限于下述湿法制程) 光刻胶显影(KrF/ArF) SU8厚胶显影 显影后清洗 PostCMP清洗 光罩去胶清洗 光刻胶去除 金属Lift-off处理 刻蚀微刻蚀处理...
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湿法显影腐蚀机
- 产品分类
- 品牌分类
- 匀胶机,旋涂仪
- 等离子清洗机
- 光刻机,紫外曝光机
- 压片机,热压机
- 紫外臭氧清洗机
- 等离子去胶机
- 快速退火炉
- 加热台,烤胶机
- 显影腐蚀系统
- 平板硫化机
- 程序剪切仪
- 薄膜测厚仪
- 探针台
- 紫外固化箱
- 反应离子刻蚀机
- 原子层沉积系统
- 等离子处理系统
- 折射率匹配液
- 显微镜浸油
- 光学凝胶
- 封固胶
- 硼酸片
- 浸入液
- 激光液
- 纳米压印机
- 引线键合机
- 光谱仪
- 分光光度计
- 烤胶机,热板
- 刮涂机
- 混合搅拦机
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- 光刻胶
- 纳米压印胶
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- 电镜耗材
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- (美国)美国Anatech
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- (美国)美国Plasma Preen
- (美国)美国Plasma Etch
- (德国)德国APT Automation
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- (美国)Trion
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- (美国)美国SSI
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- (日本)日本东丽
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