日立扫描电子显微镜

立TM4000扫描电镜独特的低真空系统使得样品不需任何处理即可快速进行观察。TM4000优化提供5kV、10kV、15kV三种不同电压下的观察模式，每种模式下电流4档可调，并配备4分割背散射探测器，可

立全新一代高分辨钨灯丝扫描电镜SU3800采用全新的HexBias偏压技术，使其低电压性能大大提升，同时升级的高灵敏度背散射探测器和可变压力探测器使得SU3800的观察能力进一步提升。SU3800还增

要特点：超大样品仓和多接口实际；高灵敏度五分割背散射电子探测器； 全新的操作界面和光镜导航功能； 报告导出和图片处理； 简单方便的维护（灯丝更换视频）；

主要特点：1. 配备加速电压减速功能，的低加速电压成像能力，1kV分辨率可达1.1nm2. 日立ZGE×B技术，无需喷镀，可直接观测不导电样品3. 配备电子枪内置加热器，物镜光阑具有自清洁功能4.

立IM4000Plus离子研磨仪利用氩离子对样品即可以进行平面研磨，也可以进行截面切割，是对样品进行无应力加工的理想工具，不会产生传统的切割或机械抛光带来的变形错位、机械应力或划痕污染等对样品的形貌观

FlexSEM1000是日立高新公司zuixin推出的一款机型小巧性能优异的钨灯丝电镜，拥有大束流和低球差的物镜和聚光镜设计，配备了高分辨率二次电子探头及高灵敏度五分割背散射探头，具有卓越的低真空成

rBlade5000是专门针对快速或大面积加工而设计的离子研磨仪，它保留了IM4000系列的平面和截面研磨功能，同时对加工速率有了很大提升。ArBlade5000的截面加工速率达到1mm/h，截面加工

立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点：1. 操作方便且有记忆功能，首

XRF喷碳仪VC-100是专为电镜设计的喷镀仪器，可以替代传统的真空蒸镀装置。主要特点：1.用普通的自动笔芯就可作为蒸镀碳的原材料；2.每次使用一根铅笔芯，操作简单，重现性好；3.可用于碳强化或制作支

XRF磁控离子溅射仪MSP-2S/MSP-Mini利用磁控电极在低电压下对样品溅射金属靶材，为SEM样品表面喷镀金属镀层，方便电镜观察，而MSP-mini是一款体积小巧，操作简便，无需通入特殊气体，使