美国Nano-Master/Nano-Master

美Nano-master 大基片清洗机 Large Substrate Cleaning :LSC-4000 是一款独立式清洗机，使用计算机控制，最大可支持外径21”的基片。

NANO-MASTER单晶圆清洗机（SWC）聚焦于提供最大可能性的清洗能力，同时维持可承担的拥有成本。标准系统配套有各种清洗能力，化学试剂清洗、刷子清洗、高转速旋转甩干带红外灯烘干和N2吹扫。 专利技...

美NANO-MASTER RTP快速退火炉 NRT-3500 紧凑型独立式全自动RTP系统 NRT-4000 独立式全自动RTP系统 NRT-4000 独立式大批量RTP系统

美Nano-master 热真空太空模拟系统 NDT-4000,是一款器件测试系统，俗称“热真空系统”,可以用于极真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。

美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统 NRR-4000 独立式双RIE或ICP刻蚀系统 NRE-4000 独立式RIE或ICP系统 NRE-3000 台式RIE系统 ...

美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积： NLD-4000 独立式ALD系统 NLD-3500 紧凑型独立式ALD系统 NLD-3000 台式ALD系统

NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独 一 ...

IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统： NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统 NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统 NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双...

NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000，可通过样片掩膜实现组合蒸镀，并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升级支持自动上下片，以及手动或自动翻转样片实现双...

IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统： NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统 NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统 NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双...

NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统NPE-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆，可通过射频、脉冲直流或者直流电...

磁控溅射系统： NSC-4000独立式磁控溅射系统，可支持共溅射等能力的扩展 NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀，可以支持金属材料的DC溅射，介质材料的RF溅射，以及脉冲DC溅射等应用。...

美Nano-master热蒸镀系统：NTE-4000 独立式电子束蒸镀，NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀，NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统，NTE-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟N...

NIE-4000 离子束刻蚀系统，NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统，通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。

NIE-4000 离子束刻蚀系统，NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统，通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。

Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000,提供zuixian极n的原子级清洗、抛光以及光学镀膜技术。