nanoArch P130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch P130是科研级3D打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
NanoArch P130/S130系统性能 | ||
性能参数 | nano Arch P130产品规格 | nano Arch S130产品规格 |
光源 | UV-LED(405nm) | UV-LED(405nm) |
打印材料 | 光敏树脂 | 光敏树脂 |
光学精度 | 2μm | 2μm |
XY打印精度 | 2-10μm | 2-10μm |
打印层厚 | 5-20μm | 5-20μm |
打印样品尺寸 | 3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H) | 模式1:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H) |
模式2:38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H) | ||
模式3:50mm(L)x50mm(W)x10mm(H) | ||
打印件格式 | STL | STL |
系统外形尺寸 | 1720(L)x650(W)x1820(H)mm³ | 1720(L)x650(W)x1820(H)mm³ |
重量 | 450kg | 450kg |
电气要求 | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW |
注:样品高度典型2mm,zui高10mm |
打印材料:
通用型:丙烯酸类光敏树脂,如HDDA,PEGDA等
个生化:高强度硬性树脂,纳米颗粒掺杂树脂,生物医用树脂等。
系统特性:
高精度:XY打印精度高达2μm;
低层厚:5μm-20μm的打印层厚;
微尺度打印能力;
光学监控系统,自动对焦功能;
配置气浮平台,提高打印质量;
优良的光源稳定性;
配备完善的样品后处理组件,包括抽真空及紫外后固化。
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