详细介绍
紫外臭氧清洗,去除无机基 材料(如:石英、硅片、金、镍、 铝、砷化镓,氧化铝等)上的有 机污染物;特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时,紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表 面,只需在传统清洗之后,再用 紫外臭氧清洗几分钟就可以。
不锈钢结构箱体
应用说明
• 表面的原子级清洗
•去除有机分子
•紫外光固化、表面化学改性
•聚合物粘接、金属粘结准备
•微流控制作、微米/纳米构型
•表面杀菌、表面氧化
•释放捕获的无机分子
•快速-大多数应用10分钟内可完成
臭氧控制系统:
紫外臭氧清洗工作原理
UVO清洗设备的核心是低压石英汞灯,产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和 等离子氧气产生,有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解;激发的 有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体,比如CO₂,等。整个过程在室温发 生,并且只需要1到几分钟完成。
紫外光处理表达方式:
紫外臭氧清洗可以去除?
皮肤油脂,有机硅油和油脂,助焊剂,残留的光刻胶,胶水溶剂,碳等。
怎样说是“超”洁净?
接触角测量方法4-5度。适用AES和ESCA测量细微的峰值。使用蒸汽测试,在冷凝 和蒸发时形成一致的彩虹装的条纹。
应用说明
功能简介 | 技术参数 |
设备结构 | 坚固耐用,全部不锈钢结构。 |
UV指示灯 | UV"ON"指示灯和可见窗口。 |
灯泡工作方式 | 间歇式灯泡工作方式,灯和定时器通过关闭门来触发。 |
滚珠轴承系统 | 滑行部件采用托盘式采用平滑低震动滚珠轴承系统-高度到38mm。 |
低压石英灯 | 低压石英水银蒸汽灯发射254nm和185nmUV,促进快速氧化,去除 微量的有机残留物。 |
蜂鸣提醒 | 在操作过程结束时有蜂鸣声。 |
精 准定时器 | 0-999秒/分钟/小时定时器,能够精确控制,灯和定时器通过门关闭 来触发。臭氧排气护罩 |
臭氧排气护罩 | UVO托盘型号有一个臭氧护罩,这会使材料再次污染最小化。一个 76mm排气出口内置在护罩的后面,可以连接到排气系统,最小排气100CFM (立方英尺/分钟) |
*注1:白色氧化铝暴露在UV能量下会变黄,这种现象是由于基材吸收UV能量, 而不是一种涂 层。这种氧化铝在
加热情况下会转化为他原来的颜色。
**注2:清洗元件温度的上升取决清洗过程的时间长度。在大多数应用,元件温度可以视为室温。
设备技术参数
Model | T10x10/OES | T16x16/OES |
光照尺寸 | 10"x10" (254×254mm) | 16"x16" (406×406mm) |
有效面积 | 100sq.in | 256sq.in. |
设备宽度 | 356mm | 508mm |
设备深度 | 603mm | 756mm |
设备高度 | 368mm | 368mm |
托盘推出深度 | 838mm | 1168mm |
滑行托盘 | 1片 | 1片 |
箱体结构 | 箱体和托盘为不锈钢结构 | 箱体和托盘为不锈钢结构 |
设备电源 | 220V/50~60Hz 1.6AmpMax | 220V/50~60Hz 2.5AmpMax |
臭氧系统 | 有臭氧排气系统 | 有臭氧排气系统 |
排气口尺寸 | 直径76mm | 直径76mm |
排气风量 | 100cfm | 100cfm |
定时器 | 在开始或结束时峰鸣 | 在开始或结束时峰鸣 |
“ON”指示器 | 有 | 有 |
产品优势
T10x10/OES,T16x16/OES,紫外臭氧清洗,去除无机基 材料(如:石英、硅片、金、镍、 铝、砷化镓,氧化铝等)上的有 机污染物;特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时,紫外清洗非常理想。
- 产品分类
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- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
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