光刻机/3D打印机/电子束直写仪

CL 7700主要特点： 高脉冲能量 闸流管开关 功率稳定运行模式 内置的能量检测器 预混料气体，使用简单 计算机控制

CL 7500主要特点： MOPA激光系统(主振荡器功率放大器) 由两个激光器CL7020或CL7050基于单光平台组成

高脉冲能量 高平均功率 高压固态开关 功率稳定运行模式 内置的能量检测器 内置能量无油真空泵与卤素过滤器 预混料气体，使用简单 计算机控制

俄罗斯Optosystems 准分子激光器：DC 4000，非常高的重复频率高达6千赫，高平均功率达160w，金属陶瓷设计，使用寿命长，能量稳定性好特性，HV固态开关，功率稳定，计算机控制，应用：材料...

德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高 效数位光刻与灰度光刻.

DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光

德国海德堡 μMLA桌面无掩模光刻机

ELS-BODEN 新型电子束光刻系统,高速扫描400MHz频率生产

日本Elionix 超高精密电子束光刻系统 ELS-F150, 是世界上DY个150千伏电子束光刻系统。支持单位纳米级用于高级研究的设备制造。

日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125，是Elionix推出的世界上首台加速电压达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。

μMLA桌面无掩模光刻机 桌面型光刻机μMLA   技术参数直写模式 I*直写模式 II*写入性能（光栅扫描和矢量曝光模式）最小结构尺寸&

OAI UV Led 光源,对准和均匀，适用于高要求的光刻应用

美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统，完全手工操作，输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线，Hg-Xe: 260nm和22...

OAI Model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、...

OAI Model 800E 型掩模对准系统，各种光谱范围选项:Hg灯:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm线，Hg-Xe灯:260nm和220nm

OAI 掩膜光刻机 Model 6000型，高吞吐量180 wph，灵活处理基板从2“平方到12”平方