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URE-2000/35 型紫外单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:URE-2000/35
- 产地:成都
URE-2000/35 型紫外单面光刻机,非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,自动化程度高)和高校教学科研(可靠性好,演示方便)采用自动找平,具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能...
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URE-2000/35L 型紫外单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:URE-2000/35L
- 产地:成都
URE-2000/35L 型紫外单面光刻机,曝光面积:100mm×100mm;分辨力:1.0 μm(胶厚 2.0 μm 的正胶,365nm 波长)
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中科院DS-2000/14G 型无掩模单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:DS-2000/14G
- 产地:成都
DS-2000/14G 型无掩模单面光刻机,采用 DMD 作为数字掩模,像素数 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三种选配,采用缩小投影光刻物镜成像,分辨力 1um。
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中科院DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:DS-2000/14K
- 产地:成都
DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机,采用 DMD 作为数字掩模,像素数 1024×768,采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。
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URE-2000/600 紫外单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:URE-2000/600
- 产地:成都
URE-2000/600 紫外单面光刻机,光束口径: 650mm×650mm,对准精度: ±1.5μm
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URE-2000/A12 紫外单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:URE-2000/A12
- 产地:成都
URE-2000/A12 紫外单面光刻机,曝光面积: 300mm×300mm;掩模尺寸: 7 英寸、9 英寸、13 英寸;
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URE-2000/A8 紫外单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:URE-2000/A8
- 产地:成都
URE-2000/A8 紫外单面光刻机,曝光面积: 200mm×200mm;分辨力:≤ 2μm
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URE-2000A 型紫外单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:URE-2000A
- 产地:成都
URE-2000A 型紫外单面光刻机,曝光面积:150mmX150mm,分辨力:0.8-1μm(胶厚 2 μm 的正胶),对准精度:±0. 6μm
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URE-2000S 系列双面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:URE-2000S 系列
- 产地:成都
URE-2000S 系列双面光刻机,对准精度:±2 mm(双面,片厚 0.8mm),±0.8mm(单面)
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URE-2000 系列紫外单面光刻机价格:面议
- 品牌: 中科院
- 型号:URE-2000 系列
- 产地:成都
URE-2000 系列紫外单面光刻机,此系列包含六种型号:URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/3,URE-2000/25,URE-2000/17
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- 品牌: 德国海德堡
- 型号:VPG+ 200,VPG+400
- 产地:德国
海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 200,VPG+400 大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术 大型光学系统上的创新与突破
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- 品牌: 瑞典Mycronic
- 型号: FPS 6100
- 产地:瑞典
瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻机,使多功能光掩模制造,具有无与伦比的灵活性。
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- 品牌: 德国SUSS MicroTec
- 规格型号:0
- 产地:德国
SUSS苏斯光刻机用曝光灯HBO 200W/DC ,HBO 350W/S,HBO 1000W/D,HBO 5000W/S,SUSS Micro Tecv美国苏斯公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机,目...
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百及纳米ParcanNano单离子注入系统SII价格:面议
- 品牌: 德国ParcanNano
- 型号:SII
- 产地:德国
单离子注入系统(纳米级定位单离子注入系统SII):精准确定位定量离子注入 • 针尖悬臂上的小孔小于50nm • 锥形电场稀释和准直离子束 • 横向电场形成离子闸门
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- 品牌: 德国ParcanNano
- 型号:P-SPL21
- 产地:德国
百及纳米ParcanNano单针尖电子束扫描系统P-SPL21,采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下,高经济...
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- 品牌: 德国ParcanNano
- 型号:P21
- 产地:德国
电子束光刻机(多功能超高精度电子束光刻机P21),样品尺寸覆盖 2/4/6 英寸晶圆,超高写场拼接精度,电子束闭环控制系统,束流的时间及空间稳定性高,高性能 30 kV 电子束光刻机。
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光刻机/3D打印机/电子束直写仪技术资料
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探针电子束光刻机(扫描探针电子束光刻系统P-SPL21)
公司推出的探针电子束光刻机P-SPL21,利用探针在近光刻胶表面发射低能电子的原理实现光刻效果。该系统的主要特点在于: (1)几乎无邻近效应,能实现3-5nm线宽的超精细光刻结构; (2)用于发射...
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探针电子束光刻机(扫描探针电子束光刻系统P-SPL21)
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