光刻机/3D打印机/电子束直写仪

URE-2000/35 型紫外单面光刻机,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能...

URE-2000/35L 型紫外单面光刻机,曝光面积：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（胶厚 2.0 μm 的正胶，365nm 波长）

DS-2000/14G 型无掩模单面光刻机,采用 DMD 作为数字掩模，像素数 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三种选配,采用缩小投影光刻物镜成像，分辨力 1um。

DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机，采用 DMD 作为数字掩模，像素数 1024×768，采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。

URE-2000/600 紫外单面光刻机，光束口径： 650mm×650mm，对准精度： ±1.5μm

URE-2000/A12 紫外单面光刻机，曝光面积： 300mm×300mm；掩模尺寸： 7 英寸、9 英寸、13 英寸；

URE-2000/A8 紫外单面光刻机，曝光面积： 200mm×200mm；分辨力：≤ 2μm

URE-2000A 型紫外单面光刻机，曝光面积：150mmX150mm，分辨力：0.8-1μm（胶厚 2 μm 的正胶），对准精度：±0. 6μm

URE-2000S 系列双面光刻机，对准精度：±2 mm（双面,片厚 0.8mm），±0.8mm（单面）

URE-2000 系列紫外单面光刻机，此系列包含六种型号：URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/3,URE-2000/25,URE-2000/17

海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 200，VPG+400 大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术 大型光学系统上的创新与突破

瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻机，使多功能光掩模制造，具有无与伦比的灵活性。

SUSS苏斯光刻机用曝光灯HBO 200W/DC ，HBO 350W/S，HBO 1000W/D，HBO 5000W/S，SUSS Micro Tecv美国苏斯公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目...

单离子注入系统（纳米级定位单离子注入系统SII）：精准确定位定量离子注入 • 针尖悬臂上的小孔小于50nm • 锥形电场稀释和准直离子束 • 横向电场形成离子闸门

百及纳米ParcanNano单针尖电子束扫描系统P-SPL21，采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济...

电子束光刻机（多功能超高精度电子束光刻机P21)，样品尺寸覆盖 2/4/6 英寸晶圆，超高写场拼接精度，电子束闭环控制系统，束流的时间及空间稳定性高，高性能 30 kV 电子束光刻机。