美国 OAI

OAI UV Led 光源-对准和均匀，适用于高要求的光刻应用。

OAI UV Led 光源,对准和均匀，适用于高要求的光刻应用

美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统，完全手工操作，输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线，Hg-Xe: 260nm和22...

OAI Model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、...

OAI Model 800E 型掩模对准系统，各种光谱范围选项:Hg灯:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm线，Hg-Xe灯:260nm和220nm

OAI 掩膜光刻机 Model 6000型，高吞吐量180 wph，灵活处理基板从2“平方到12”平方

OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S, 用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm晶圆尺寸的FO-PLP加工.

OAI AML 晶元绑定机晶圆接合器，促进在高真空室中原位进行对准和接合。AML晶片接合器非常适合阳极接合，硅直接和热压接合应用。 这些特性使焊接机能够与几乎任何加工工具一起使用。

国 OAI 光刻机:Model  200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model  2000 全自动边缘

OAI 30型UV光源OAI 30型UV光源（显示有可选支架）由独立光源，恒定强度控制器和快门定时器组成。30型UV光源是高效的，可用于各种应用。光由椭圆形反射器收集并聚焦在积分/聚光透镜阵列上，以

外光源OAI UV光源是大面积准直光源。 该器件的输出功率高达10KW。 利用准直镜，UV光源重型是一种高效的紫外光源，适用于各种大规模应用。UV Light Source GrandeThe OAI

012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动FOUP装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加

种型号的2000型曝光系统包括UV光源，强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 UV光源提供发散半角在AF配置中，2000型泛光曝光系统用于增强和/或增强生产和研发环境中的光刻过程。应用包括光刻胶稳定和

800FSA型掩模对准器可以配置多种OAI光源，功率高达2KW。

AI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具

•全自动 •侧面对齐 •可选：底部对齐 UV到NUV •集群工具集成 •自定义软件