镀膜沉积系统

德国iplas微波等离子化学气相沉积 iplas Mpcvd 915MHz 系统,德国 iplas公司的独家专利多天线耦合微波等离子技术（CYRANNUS®），可在反应腔中实现极高的 SP3 键转化...

德国iplas微波等离子化学气相沉积 Cyrannus 1-6" 2.45GHz系统，德国 iplas公司的独 家 专 利多天线耦合微波等离子技术（CYRANNUS®），可在反应腔中实现极高...

德国iplas微波等离子化学气相沉积 Cyrannus 1-16" 915MHz 系统,德国 iplas公司的独 家专 利多天线耦合微波等离子技术（CYRANNUS®），可在反应腔中实现极高...

PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD，基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）,200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）

PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD ，最 大300mm晶圆/单片，25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 30...

PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300F Pro ALD PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300BV Pro ALD 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 ...

PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD ，由两台PICOSUN P-200S ALD设备组成，带等离子体源PICOPLASMA。

Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪Q150T PLUS，是一款优化设计的带涡轮分子泵抽真空的镀膜设备，真空度可达5x10-5mbar。可以溅射具有超细成膜颗粒的易氧化金属，适用于高分辨率成像。同样地，...

美Nano-master 大基片清洗机 Large Substrate Cleaning :LSC-4000 是一款独立式清洗机，使用计算机控制，最大可支持外径21”的基片。

NANO-MASTER单晶圆清洗机（SWC）聚焦于提供最大可能性的清洗能力，同时维持可承担的拥有成本。标准系统配套有各种清洗能力，化学试剂清洗、刷子清洗、高转速旋转甩干带红外灯烘干和N2吹扫。 专利技...

美NANO-MASTER RTP快速退火炉 NRT-3500 紧凑型独立式全自动RTP系统 NRT-4000 独立式全自动RTP系统 NRT-4000 独立式大批量RTP系统

美Nano-master 热真空太空模拟系统 NDT-4000,是一款器件测试系统，俗称“热真空系统”,可以用于极真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。

美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积： NLD-4000 独立式ALD系统 NLD-3500 紧凑型独立式ALD系统 NLD-3000 台式ALD系统

NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独 一 ...

NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000，可通过样片掩膜实现组合蒸镀，并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升级支持自动上下片，以及手动或自动翻转样片实现双...

NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统NPE-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆，可通过射频、脉冲直流或者直流电...