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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
主营产品:光刻机/3D打印机,镀膜沉积机,离子刻蚀与沉积系统,半导能检测仪器,UV清洗设备
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光刻胶

 
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德国 ALLRESIST 紫外光刻胶
  • 品牌: 德国Allresist
  • 型号:AR-P 3200,AR-U 4000,AR-N4340
  • 产地:德国
  • 德国 ALLRESIST 紫外光刻胶,各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g...

德国Allresist 特殊工艺用光刻胶
  • 品牌: 德国Allresist
  • 型号:AR-BR 5480,AR-PC5090
  • 产地:德国
  • 德国Allresist 特殊工艺用光刻胶,电子束曝光导电胶,耐酸碱保护胶,聚酰亚胺胶(耐高温保护胶),全息光刻用胶,长波曝光胶, 深紫外曝光胶等特殊工艺用胶

德国Allresist 电子束光刻胶AR-P 617
  • 品牌: 德国Allresist
  • 型号:AR-P 617,AR-P6200
  • 产地:德国
  • 德国Allresist 电子束光刻胶(电子束抗蚀剂)(E-beam resist) 电子束正胶:PMMA 胶,PMMA/MA 聚合物, LIGA 用胶等。 电子束负胶:高分辨率电子束负胶,化学放大胶(...

德国 ALLRESIST 紫外光刻胶
  • 品牌: 德国Allresist
  • 型号:AR-P 1200,AR-U 4000,AR-N2200
  • 产地:德国
  • 德国 ALLRESIST 紫外光刻胶,各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g...

ZEP520A 电子束光刻胶
  • 品牌: 深圳一正
  • 型号:ZEP520A
  • 产地:深圳
  • ZEP520A是一种高性能正电子束电阻,具有高分辨率、高分辨率敏感性和耐干腐蚀性。适用于各种电子束工艺。

AZ 1500 系列i线光刻胶
  • 品牌: 美国AZ technology
  • 型号:AZ1500(1505,1518,1529,1514H,15
  • 产地:美国
  • AZ 光刻胶 AZ1500 系列,其中型号AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)

英国EM SML Resist 电子束光刻胶
  • 品牌: 英国EMS
  • 型号:,SML50,SML100,SML300,SM600,SML
  • 产地:英国
  • 英国EM Resist 电子束光刻胶 SML Resist ,SML50,SML100,SML300,SM600,SML1000,SML2000

德国ALLRESIST导电胶AR-PC5090 和 AR-PC5091
  • 品牌: 德国Allresist
  • 型号:R-PC5090 和 AR-PC5091
  • 产地:德国
  • 德国ALLRESIST防护涂层PMMA Electra 92 (AR-PC 5090) 用于非氮基电子束电阻的导电保护涂层 用于在绝缘衬底上耗散电子束电荷的顶层

德国Allresist AR-P617 电子束光刻胶
  • 品牌: 德国Allresist
  • 型号:AR-P617
  • 产地:德国
  • 德国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 610系列 用于纳米光刻的 AR - P617电子束电阻 共聚物抗蚀剂系列用于生产集成电路和掩模

AR-P 6200正电子束光刻胶
  • 品牌: 德国Allresist
  • 型号:AR-P 6200 (CSA-62)
  • 产地:德国
  • 德国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 6200 (CSA-62),高分辨率,用于生产集成电路和掩模的高对比度电子束电阻。

SU-8 2000 永 久性环氧负性光刻胶
  • 品牌: 美国MicroChem
  • 型号:SU-8
  • 产地:美国
  • SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶,适用于微加工和其他微电子应用领域,需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来被MEMS生产厂家广泛使用。采用更快的干...

富士负性PI   LTC9000系列光刻胶
  • 品牌: 富士
  • 规格型号:
  • 产地:日本
  • 富士PI详细介绍:材料型号具体规格用途使用方法特点厚度范围/um分辨率备注负性PI(polyimide)LTC9000 系列LTC 9305作为介电层或缓冲层光刻负胶,低温固化;用于铜衬底工艺4-5

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