关于膜厚控制的问题,正如我前面提到的膜厚主要取决于三方面:
1、胶液的情况(粘度、滴胶速度、胶液在操作温度下的凝固情况)
2、基底材料的特性(表面平滑度,洁净程度)
3、设备方面(旋涂速度,加减速度和旋涂时长等因素)
为了得到适合自己的材料的涂覆制备过程,实验人员一般需要经过一段时间的累
积,我们的设备可以将试验好的涂覆程序段(涂覆步骤和转速时长)存储下来,下次
使用时,可以直接从系统里调用程序段,它既可按照原先设定好的步骤完成制备过
程。
下面除去上面影响膜厚的因素以外,我们也尝试制作一个旋涂速度和膜厚之间关系的
曲线,供您以后在使用过程中参考:
1、 选择一个程序段予以设定并逐步存储下来,并确定好动态/静态滴胶的方式;
2、 尝试设定一个Zdi的启动滴胶转速,比如光刻胶,初始转速一般设定在1000RPM;
3、 用这个Zdi的转速涂膜,并测试膜的厚度(有时候需要考虑增加烤胶等其他工艺
以便能够准确测试膜的厚度);
4、 接下来将启动转速调高,比如2000RPM,再重新测试一遍膜厚;
5、 继续尝试更高的转速,诸如3000,4000,5000,6000RPM;
6、 然后把这些厚度和速度之间的关系做成一个曲线图;如附件所示速度和膜厚的关
系曲线图。
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梅特勒-托利多,METTLER-TOLEDO(纽约证券交易所代码:MTD):世界上首台替代法单盘天平的fa明
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