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NexION 5000 ICP-MS在超纯水分析中的应用

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实验/操作方法
实验结果/结论
仪器/耗材清单

超纯水(UPW)被广泛地用于半导体器件生产中所有湿法工艺步骤,包括晶片冲洗和化学浴中化合物的稀释。在这些关键步骤中,可能会吸收来自化学浴和冲洗水中的污染物,然后通过一系列的化学和电化学反应沉淀到硅表面。在成品的重点区域中,如果金属污染物的浓度达到50 ppq,就会改变集成电路部件的电气参数,导致其无法通过最后的电气测试。因此超纯水纯度测定至关重要。

在此,我们将展示出珀金埃尔默zui新的化学高分辨多重四极杆ICP-MS仪器NexION 5000获得的超纯水分析结果。NexION 5000 四组四极杆组成的多重四极杆ICP-MS质谱平台,通过各四极杆的不同质量分辨能力和工作模式,结合碰撞反应池技术,实现化学高分辨,获得zhong极干扰消除。


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