iCAP TQ三重四级杆ICPMS测定高纯氧 化镝中的15种稀土杂质

本文运用赛默飞iCAP TQ三重四级杆ICPMS 建立了一种直接测试高纯氧化镝中15种稀土杂质的方法。该方法简单快速，无需复杂的基体分离过程，利用iCAP TQ有效去除氧化镝基体多原子离子对165Ho和175Lu的干扰，适用于纯度为99.99%~99.9999%的高纯氧化镝中稀土杂质纯度分析。

高纯稀土镝因其优异的性能在稀土超磁致伸缩材料、高性能钕铁硼永磁材料，高性能镝灯中发挥重要作用，近些年市场需求量快速上升，对于镝材料的纯度也提出更高要求（高性能镝灯要求Dy/TRE在99.999%以上）。ICPMS在稀土杂质分析方面已经广泛应用，但是稀土元素之间质谱干扰严重，高纯氧化镝有7个同位素分布在156Dy（0.06%）到164Dy（28.2%）质量范围内，容易形成复合多原子离子干扰其他重稀土元素的直接测定，最突出的是对165Ho和175Lu的干扰[1]。目前普遍采用分离技术将稀土基体分离后采用单四级杆ICPMS测定，然而分离过程复杂繁琐。本文采用赛默飞三重四级杆ICPMS iCAP TQ，轻松去除大量基体元素Dy形成的多原子离子对稀土杂质测测试干扰。

采用用三重四级杆iCAP TQ ICPMS可以有效去除氧化镝基体多原子离子干扰，尤其是对165Ho和175Lu的测定，避免了复杂的基质分离过程，可用于直接分析纯度为99.99%~99.9999%的高纯氧化镝中稀土杂质。