测试原理:
XPS的原理是用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子。可以测量光电子的能量,以光电子的动能/束缚能(binding energy,Eb=hv光能量-Ek动能-w功函数)为横坐标,相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图。从而获得试样有关信息。
1. 测试项目:全谱,精细谱,价带谱,XPS深度刻蚀、微区XPS、二维成像
2. 样品要求:(需提供样品含有的元素,包括氧)
块状和薄膜样品,需标记好测试面(表面平整,样品干燥),长宽小于10mm,高度小于3mm(最佳尺寸小于5×5×2mm,大尺寸样品需确认);(块体/薄膜样品表面请用乙醇擦拭干净或抽真空来样,接触空气容易受C,N,O,Si等元素污染)
粉末样品,不少于10mg(样品需干燥);
磁性样品可测试,需在测试前沟通。
XPS深度刻蚀需提供:提供详细测试过程,刻蚀要求。如刻蚀能量、刻蚀次数、单次刻蚀时间等要求,如2kV能量,速率0.1nm/s,单次刻蚀300s后,总计刻蚀4次,采集刻蚀前、后的谱图;
微区XPS需提供:测试区域200~300um或100~200um或50~100um或10~50um
3. 应用范围:用于各种有机和无机固体材料的表面元素和其价态的定性,定量分析,可用于腐蚀,摩擦,浸润,粘接,催化,包覆,氧化等表面和界面过程的研究。
定性:元素种类及价态信息(可以分析除H和He以外的所有元素)
定量:半定量,属于表面灵敏型测试
成像:元素XPS二维成像
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