全自动等离子去胶机(刻蚀机):NANO-MASTER 等离子刻蚀和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理,具有广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
全自动等离子去胶机(刻蚀机)应用:
有机物以及无机物的残留物去除
光刻胶剥离或灰化
去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用
清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架
提高黏附性,消除键合问题
塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能
产生亲水或疏水表面
An inert torch allows samples digested with hydrofluor
Accurate elemental analysis of soils is extremely impo
植物的生长和发育在很大程度上依赖于矿物质营养元素的组成和浓度,这反映在植物的叶片和其它组织上这些必需的营养元
在本文中,我们使用 Agilent 7900 ICP-MS 测定单个NP 峰信号并对其性能进行了评估7900
由于兼具质量轻伸缩性好和抗冲击性强等独特性质,工程级的 CRFP 广泛应用于商用和航空领域CFRP 是一种有
固定源和移动源稀燃汽车排放的尾气中会产生较多的NOX(90%左右为NO),并且由于尾气中氧的浓度较高(一般高
用分析数据说明了电感耦合等离子体直角加速飞行时间质谱仪(ICP-oa-TOF-MS)商品化仪器(Optima
Hiden公司利用HPR60的高端技术,成功的解决了利用质谱仪进行常压等离子体分析的难题仪器采用三组真空泵站
ESPion高级Langmuir探针(Advanced Langmuir Probes for Electr