紫外臭氧清洗机历史

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。

紫外臭氧清洗机历史

在七十年代中期，紫外光被美国军事电子技术和器件实验室应用来对石英晶片进行照射清洗，取得的效果十分满意，然而在非常长的一段时间内，军事领域为美国紫外光表面清洗技术的主要应用领域，其主要被用于研究性应用。

一直到九十年代初，在日本和美国的民用光电子产品的工业生产过程中，紫外臭氧清洗机先后得到应用，紫外臭氧清洗机被提供给了我国个别外资LCD企业，并且要求这些企业对技术进行保密。在此以后，紫外光表面清洗技术在日本得到迅猛发展，与此同时，紫外光表面改质技术也获得了发展。

在二十世纪末，日本等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术通过信息产业慢慢向着金属、塑料、橡胶等工业生产过程进行拓展。

二十世纪九十年代后期，我国的信息技术和产业发展速度十分惊人，尤其是高速发展的平板显示技术，LCD显示屏从TN级向STN和TFT持续提升，市场上也开始进入新型的OLED显示产品。从这开始，对于制备工艺过程表面质量有着越来越严格的要求，对于紫外光表面清洗技术的优越性的认可也变得越来越广泛，紫外臭氧清洗机的需求量也在持续增加。