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将各类胶液滴注于高速旋转的基片上,滴在基片上的胶液通过离心力在基片上均匀地涂覆的设备,被叫做匀胶机。溶胶的黏度以及匀胶机的转速对于膜的厚度起到决定性作用。
匀胶机境控制
能够用于涂覆的基底材料有许多,然而如ITO玻璃的一英寸见方的玻璃基底为应用的zui多的基底,其在实验室用的载玻片甩胶前取得。胶液应当通过过滤来将杂质去除,过滤器的规格一般使用0.45微米。一般需要注意在超净间(10级或100级)中进行旋涂,在通风橱里进行大部分的旋涂,在旋转托盘上放置载玻片,胶液利用注射器滴管滴下。通常包括两个转速范围。di一个阶段,转速在500-1000RPM范围内旋转5-10秒钟,从而使得胶液被平铺开,而第二阶段的速度变化主要用来控制液厚度,1500RPM-6000RPM为平常的转速范围,旋转时长由几秒钟到几分钟,这样就能够使得几百个纳米到数十个微米之间的均匀薄膜获得。
一旦旋涂结束以后,载玻片一般往一个制模加热板上迅速的放置(通常能够加热到大约400摄氏度),在几秒钟或几分钟以内使溶剂的蒸发以及薄膜的固化得以实现。甚至需要烘烤载玻片几个小时或者一个晚上,在烤箱或真空炉在温度高到能够将余下的溶剂充分蒸发掉,尽管无需往培养皿中放入,然而可以利用一两个烘烤步骤来对薄膜进行保护从而使其远离灰尘,以及溶剂冷却对薄膜平滑度和质量的影响,半开着烘烤的盖板,为顺利蒸发掉溶剂提供方便。
匀胶机技术参数
电机功率:40W
LED数字显示
转速稳定度:±1%
胶的均匀性:±3%
真空泵抽气速率:60升/分
仪器尺寸:210×220×160mm
调速范围:
I档调速范围:500-2000转/分
II档调速范围:1300-8000转/分
匀胶时间:
I档匀胶时间:2-18秒
II档匀胶时间:3-60秒
适用:中5-中100mm硅片及其它材料等匀胶
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