离子溅射仪系统特点

离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

离子溅射仪溅射技术

为了使样品表面成像或者图像质量得到改善，在电子显微镜领域内，离子溅射仪通常需要对样品进行表面镀膜。将一层导电的金属薄膜覆于样品表面能够使荷电反应得以消除，使电子束对样品表面的热量损伤得以降低，能够使SEM对样品进行形貌观察所需要的二次电子信号量得以提高。

离子溅射仪系统特点：

1、过流、真空保护被内置，当溅射电流过高或真空较差时自动中断，非常的可靠和安全。

2、微调阀的灵敏度相当的高，能够对气体流量进行精确地控制。

3、翻盖式设计为靶材组件所采取，能够简洁和方便地进行操作。

4、用户使用向导和说明书被内置，用户操作起来非常方便。

5、微处理器为离子溅射仪所采用来进行控制，有着非常高的自动化程度，能够精确地进行控制，操作起来也比较容易。

6、5英寸彩色触摸屏，能够对真空度、溅射电流、设定溅射时间、剩余溅射时间、膜厚估算等进行实时显示。

7、能够对金、银、铜、铂等常用靶材进行溅射。

8、能够对设备运行时间、靶材使用时间进行实时显示，使得对设备情况的了解较为方便。