离子溅射仪镀膜原理和结构

离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

离子溅射仪用途：

离子溅射仪为一种镀膜装置，能够被扫描电镜、电子探针等仪器用来对试样进行制备，为使教学科研实验得以开展的必备仪器。

离子溅射仪镀膜原理与结构：

离子溅射仪镀膜基本原理为以荷能正离子对靶电极轰击使得溅射现象产生为基础。在基台上样品表面靶被溅射出来的中性原子沉淀成膜，使得导电层形成。

该离子溅射仪为二极结构，通过台和样品架为正电极连接仪器外壳并且接地，负电极(加负高压)为溅射靶电极。其在玻璃罩的真空腔内被安装，当腔内达到一定真空度，其中在电场加速下，足够能量为正离子所获得来对负电极上的靶面进行轰击，靶面被溅射原子于基台的样品表面沉淀使得导电膜形成，提供来被上述仪器进行分析。

离子溅射仪特点：

1、能够按到实验需要对溅射操作的工艺参数进行自由的设置，能够更加方便以及灵活的使用。

2、真空锁保护设置为仪器所具有，使得仪器具有更加好的安全性与可靠性。

3、真空锁保护设置为仪器所具有，使得仪器具有更加好的可靠性与安全性。

4、更加人性化的设计，有着更好的整体性。

5、单片机控制，能够方便简洁地进行操作。