脉冲激光沉积系统结构

脉冲激光沉积系统为一种在化学领域进行应用的工艺试验仪器。脉冲激光沉积，又被叫做脉冲激光烧蚀，为一种通过激光轰击物体，之后在不同的衬底上沉淀轰击出来的物质，使沉淀或者薄膜获得的一种手段。

脉冲激光沉积系统结构

测控装置,监控装置,电机冷却系统等辅助设备，真空室,抽真空泵,充气系统,靶材,基片加热器等沉积系统，光阑扫描器,会聚透镜,激光窗等光路系统以及脉冲激光器通常为脉冲沉积系统的组成构件。

脉冲激光沉积系统概述

一束激光通过透镜聚焦以后往靶上投射，烧蚀被照射区域的物质，烧蚀物择优沿着靶的法线方向传输，使得一个看起来象羽毛状的发光团羽辉形成，zui后在前方的衬底上沉积烧蚀物，使一层薄膜形成。在沉积的过程中，一般将一定压强的某种气体充进真空腔中，例如淀积氧化物时一般将氧气充入，来对薄膜的性能进行改善。

脉冲激光沉积系统待解决的问题

1、某些材料靶膜成分并不相同。对于多组元化合物薄膜，若较高的蒸气压为某些种阳离子所具有，那么在高温下，薄膜的等化学计量比生长就不能够保证。

2、大面积的膜的制备相当困难。

3、微米-亚微米尺度的颗粒物污染在薄膜表面存在，所制备薄膜有着较差的均匀性。

脉冲激光沉积系统发展前景

透过脉冲激光沉积技术的原理、特点能够知晓，该薄膜制备技术十分具有发展潜力。伴随着辅助设备和工艺的进一步优化，其在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥的作用非常重要，并且可以使得薄膜生长机理的研究加快以及使薄膜的应用水平提高，使得料科学和凝聚态物理学的研究进程加快，与此同时也将一种行之有效的方法提供给了新型薄膜的制备。