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离子溅射仪

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离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

离子溅射仪
离子溅射仪的工作原理、组成和步骤
离子溅射仪的工作原理、组成和步骤

离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位...[查看全部]

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离子溅射仪的工作原理、组成和步骤
离子溅射仪镀膜原理和结构

离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

离子溅射仪用途:

离子溅射仪为一种镀膜装置,能够被扫描电镜、电子探针等仪器用来对试样进行制备,为使教学科研实验得以开展的必备仪器。

离子溅射仪镀膜原理与结构:

离子溅射仪镀膜基本原理为以荷能正离子对靶电极轰击使得溅射现象产生为基础。在基台上样品表面靶被溅射出来的中性原子沉淀成膜,使得导电层形成。

该离子溅射仪为二极结构,通过台和样品架为正电极连接仪器外壳并且接地,负电极(加负高压)为溅射靶电极。其在玻璃罩的真空腔内被安装,当腔内达到一定真空度,其中在电场加速下,足够能量为正离子所获得来对负电极上的靶面进行轰击,靶面被溅射原子于基台的样品表面沉淀使得导电膜形成,提供来被上述仪器进行分析。

离子溅射仪特点:

1、能够按到实验需要对溅射操作的工艺参数进行自由的设置,能够更加方便以及灵活的使用。

2、真空锁保护设置为仪器所具有,使得仪器具有更加好的安全性与可靠性。

3、真空锁保护设置为仪器所具有,使得仪器具有更加好的可靠性与安全性。

4、更加人性化的设计,有着更好的整体性。

5、单片机控制,能够方便简洁地进行操作。

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离子溅射仪的技术参数
离子溅射仪常见故障和技术参数

离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

离子溅射仪常见故障

故障现象:使用一段时间后,溅射电流变小

解决方法:对靶材有无变色、破裂和油污等现进行检查。前两者对靶材进行更换,后者被油蒸汽污染,通过无水乙醇进行清洁,等到干了以后才能够抽真空。

故障现象:在使用一段时间以后,有着过低的真空。

解决方法:对溅射室中或管道内是否有油进行检查,能够使用汽油进行清洗。

故障现象:溅射电流不稳定忽高忽低

解决方法:阴极罩与靶的固定环有着过近的距离,将阴极罩逆时针旋转,对间距进行调整。

故障现象:有着过低的真空

解决方法:将放气阀、漏气阀和观察泵的油窗液面旋紧。

离子溅射仪技术参数:

1、真空测量:1×10的5次方到-1.0×0.1帕,数字显示,单片机进行控制,数字进行显示,真空保护锁设置为其所具有。

2、控制系统:单片机控制,使得真空自动测量、显示、定时器dao计时功能完成以及使得镀膜程序自动完成。

3、真空泵:每秒2升二级旋片式直联机械泵,极限真空度6×0.1帕。

4、充气阀:金属微调针型阀,保护气体:推荐99.9%纯度氩气

5、外形尺寸:长354毫米 ×高216毫米 ×深340毫米

6、电源:AC 220伏特 50赫兹

7、真空腔:¢150×12 硼酸硅质玻璃

8、溅射靶尺寸:¢55×0.3

9、基台: ¢50 6-8个样品

10、极间距调节范围:20-40毫米

11、溅射电压: -2000伏-0 DC连续可调

溅射电流0-30 毫安

12、定时器:0-99分数字显示

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与离子溅射仪的技术参数相关文章
离子溅射仪用途
离子溅射仪功能

离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

离子溅射仪功能:

一个更加广泛的选择由于全自动直流离子溅射仪在制样过程中被提供给了扫描电镜用户,从而为扫描电子显微镜所需的涂层要求的适用提供了支持。在结构设计及人机界面方面简单智能,对人性更加的注重。一个低成本的解决方案由于离子溅射仪对SEM样品常规适用黄金溅射被提供了,与此同时能够利用对金、铂、铱、银、铜等不同的靶材的更换来使得更细颗粒的涂层达到。与此同时,利用智能的人机界面对仪器的控制更加的方便、简单以及精确,与此同时,能够对镀层厚度进行估算,对真空实时显,溅射电流对溅射时间进行设定,对靶材的剩余情况进行计算。

离子溅射仪在扫描电镜(SEM)的样品喷金方便为专用的仪器,样品的导电性及导热性可以非常有效的提供,使恒沉积速率得到确保,使等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤减少,使扫描电镜观测结果得到了较为显著的提高。

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