紫外臭氧清洗机

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。

紫外臭氧清洗机历史

在七十年代中期，紫外光被美国军事电子技术和器件实验室应用来对石英晶片进行照射清洗，取得的效果十分满意，然而在非常长的一段时间内，军事领域为美国紫外光表面清洗技术的主要应用领域，其主要被用于研究性应用。

一直到九十年代初，在日本和美国的民用光电子产品的工业生产过程中，紫外臭氧清洗机先后得到应用，紫外臭氧清洗机被提供给了我国个别外资LCD企业，并且要求这些企业对技术进行保密。在此以后，紫外光表面清洗技术在日本得到迅猛发展，与此同时，紫外光表面改质技术也获得了发展。

在二十世纪末，日本等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术通过信息产业慢慢向着金属、塑料、橡胶等工业生产过程进行拓展。

二十世纪九十年代后期，我国的信息技术和产业发展速度十分惊人，尤其是高速发展的平板显示技术，LCD显示屏从TN级向STN和TFT持续提升，市场上也开始进入新型的OLED显示产品。从这开始，对于制备工艺过程表面质量有着越来越严格的要求，对于紫外光表面清洗技术的优越性的认可也变得越来越广泛，紫外臭氧清洗机的需求量也在持续增加。

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。与此同时，还能够将光刻胶去除，使材料表面润湿性得到改善以及对SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等进行清洗。一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段被提供，对于一些有机化合物的清除尤为合适。

紫外臭氧清洗机基本原理

有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。波长为185纳米以及254纳米的光波通过UV光源进行发射，具有的能量相当高，当这些光子在被清洗物体表面发生作用时，因为大部分碳氢化合物对于185纳米波长的紫外光所具有的吸收能力比较强，并且在对185纳米波长的紫外光的能量吸收以后使得离子、游离态原子、受激分子和中子被分解出来，此即为所说的光敏作用。空气中的氧气分子在对185纳米波长的紫外光进行吸收以后也会有臭氧和原子氧产生。臭氧对254纳米波长的紫外光的吸收作用液同样非常强烈。臭氧被分解成氧气以及原子氧，其中原子氧是非常活泼的，物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物在其作用下能够被化合成可挥发的气体。从表面逸出水蒸气以及二氧化碳等，从而使得黏附在物体表面上的碳和有机污染物被彻底清除了

在清洗时基板治湿性向上，通过滚轮方式输玻璃基板，低压水银灯在上方装置，使得紫外线照射产生。玻璃基板所累积紫外线有着越多的能量，其表面水就会有越小的接触，成逆向关系。

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。

紫外臭氧清洗机影响因素

在紫外臭氧清洗机消毒过程中，消紫外线消毒与照射强度和照射时间均存在关联，温度和湿度对其有着较大的影响，有消毒死角。臭氧消毒杀菌有着较快的杀毒速度，光谱有着较强的杀毒能力。没有消毒死角，其消毒效果能够达到通常紫外线消毒的15倍，并且不会产生二次污染，除了能够对物体表面进行消毒，而且还能够去除室内存在的甲醛、苯、烟味等有害气体。

紫外臭氧清洗机作用

紫外线能够将包括细菌繁殖体、芽胞、分支杆菌、病毒、真菌、立克次体和支原体等在内的各种微生物杀灭，广谱性为其所具有。从内部对有害物质进行破坏从而是其死亡。利用紫外光和臭氧氧化去除衬底表面的油脂和有机物，从而使清洁的效果达到。与此同时使衬底表面的亲疏水性改变了，使墨水在衬底上的打印效果得到优化，上述这些均为紫外臭氧清洗机的作用。

紫外臭氧清洗机处理不同衬底时的效果：

1、对于比较干净、没有做过有机涂层处理的衬底做清洗，并没有较为明显的清洗效果。

2、对于表面做过有机涂层，亲水性较好的衬底做清洗，疏水性增加为清洗以后得出的结果，有着较为明显的效果。

3、对于表面较脏、油污较多的衬底做清洗，疏水性增加为清洗以后得出的结果，有着较为明显的效果。

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。

紫外臭氧清洗机应用

1、大规模集成电路的密度变得越来越高，晶格的微细化也变得越来越密，对于表面的洁净度也有了越来越高的要求。光清洗能够使表面的原子清洁度得到有效地实现，并且不会损伤芯片表面。

2、在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，能够使粘合力得到提高，使针孔、裂缝的发生得以避免。

3、在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，能够使光盘的质量得到提高。

4、粘合磁头固定面，磁头涂敷与对金属丝的连接强度加以提高，光清洗以后会获得更加好的效果。

5、在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，能够使基体表面润湿性得到非常大的提高，使得基体表面的粘合力增强。

6、印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，能够使得熔焊的接触面积提高，使连接强度得到大大的增加。尤其是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗能够将在线距之间很小的微粒轻易地去除掉，能够使印制电路板的质量大大地提高。

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。与此同时，还能够将光刻胶去除，使材料表面润湿性得到改善以及对SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等进行清洗。一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段被提供，对于一些有机化合物的清除尤为合适。

紫外臭氧清洗机的维护保养

1、在干燥通风平稳的位置安放紫外臭氧清洗机。

2、在对紫外臭氧清洗机使用的过程，需要特别留心，不要对产品进行随意地挪动或者不能够将紫外臭氧清洗机的上盖打开，从而防止导致溢水的情况发生。

3、在对紫外臭氧清洗机使用结束以后，为了防止机器内部有一位产生或者有细菌滋生，需要对其进行及时地清洁。通常的清洁剂即能够使用。

4、应当保持紫外臭氧清洗机洁净与干燥，尤其值得注意的是预防回水。对紫外臭氧清洗机的电压电流是否正常进行定期的检查。

5、对于工具的检查与保养大概一周会有一次，往轴承等转动部位添加黄油，往气动马达部位添加机油。