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浸渍提拉镀膜仪文献：SiO2等离子纳米结构涂层阻断热电放射性
本文由 北京东方德菲仪器有限公司 整理汇编
2024-09-28 00:30 955阅读次数
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Noble metallic nanostructures provide a platform for high-sensitivity spectroscopic sensing with significantly enhanced electromagnetic fields due to surface plasmon polaritons. However, target molecules can be transformed into other molecules under irradiation with an excitation laser during the surface-enhanced measurement, which thus disturbs detection of unknown samples. In this paper, we perform Raman measurements of p-aminothiophenol on gold nanosurfaces with and without deposition ......
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期刊论文
浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7 主要介绍了浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7的主要特点、主要应用及技术参数。[详细]
2024-09-29 08:48
产品样册
浸渍提拉镀膜仪 型号：MHY-20001 浸渍提拉镀膜仪型号：MHY-20001一.产品应用本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液中，通过预先设置的浸渍时间、提拉速度、提拉高度、镀膜次数等参数，将浸渍后的基片以一定速度慢慢提拉起来，在基片的表面形成一层纳米级的薄膜。膜层厚度由提拉速度，液体浓度和液体粘度决定。采用溶胶-凝胶法镀膜，随着基片从溶胶中提拉出来，在基片上附着一层膜，称为“湿凝胶膜”，随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发，膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。二.产品简介浸渍提拉镀膜机是专门为液相（特别是sol-gel法）制备薄膜材料的研究工作而设计，对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。对镀膜基质无特殊要求，片状、块状、圆柱状等均可镀膜。运行稳定、工作时液面无振动，可极大提高实验精度与实验效率。适用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面涂覆工艺。应用于科学研究、产品生产。三.产品特点1.采用先进的C4级精密传动装置；2.关键零部件来自ZG台湾及日本进口；3.多参数全自动控制；提拉速度连续可调；4.4.3寸液晶触摸屏使控制更方便；5.高、低速均运行平稳，无振动，使成膜更均匀；四.技术参数1.提拉速度范围：10～4000μm/s，Z小分辨率1μm/s；2.有效提拉高度：MAX100mm，Z小分辨率1mm；3.浸渍时间：1～600s，Z小分辨率1s；4.镀膜次数：1～20次，Z少1次；5.每次镀膜间隔时间：1～3600s，Z小分辨率1s；6.电源：220V/50Hz[详细]
2018-09-17 10:00
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镀膜提拉机 提拉机GZQ-4200A 镀膜提拉机提拉机型号：GZQ-4200AGZQ-4200系列镀膜提拉机是一款专门为液相制备薄膜材料而设计的精密仪器，可在不同液体中浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调，对镀膜基质无特殊要求，运行稳定，可极大提高实验精度与实验效率。适用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面涂覆工艺。技术特点进口直线运动驱动系统，行程精度高；提拉速率可调；提拉过程液面无振动；点阵式液晶显示屏，中文菜单化操作；交直流供电，内置高性能锂电池。技术指标 主要参数指 标 进样行程GZQ-4200A型100mmGZQ-4200B型200mmGZQ-4200C型300mm(特殊规格可定做) 线速度范围(5～400000)um/min 调整分辨率1um/min 浸渍时间1s～99min59s 镀膜次数(1～9999)次 每次镀膜间隔时间1s～99min59s 额定线性推力>50N 位移精度±0.1mm 主机尺寸W×D×HGZQ-4200A型(260×200×420)mmGZQ-4200B型(260×200×470)mmGZQ-4200C型(260×200×570)mm(特殊规格可定做) 电池工作时间≤5h 整机重量约7kg 电源适配器输入AC100～24050/60Hz输出DC19V3A 功 耗 <30W[详细]
2018-09-24 10:01
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浸渍提拉镀膜机文献：从无机水溶液中低速浸涂氧化金属薄膜 文中提出了一种新的低速浸涂技术，用于从无有机添加剂的水溶液中制备金属氧化物薄膜，其中，在极高的浸涂过程中，通过蒸发驱动的沉积可在基材上形成膜 在25至60℃的温度恒温箱中，基材的取出速度低于1.0cm/min。 通过低速浸涂分别从SnCl4和TiOSO4水溶液中获得透明，无裂纹的SnO2和TiO2前驱膜。 通过在空气中在700℃下热处理10分钟，将由此获得的前体薄膜结晶为SnO2和TiO2薄膜。
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2024-09-18 18:10
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程控提拉涂膜机 HAD--MM02 程控提拉涂膜机型号：HAD--MM02产品简介：HAD--MM02程控提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制，可设定提拉速度、停留时间、入液速度、循环次数产品型号HAD--MM02程控提拉涂膜机安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要。2、电：AC220V;50Hz，必须有良好基地。3、气：不需要。4、工作台：尺寸800mm（L）*600mm(W)*700mm(H),承重200kgs以上。5、通风装置：不需要。主要特点1、采用彩色触摸屏，方便参数设置及调整。2、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度：1-200mm/min2、速度稳定性：±0.05%3、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸：320mm×260mm×560mm；重量：17kg标准配件样件夹具1套载料杯1个提拉丝3条[详细]
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拉曼滤光片与紫外镀膜 拉曼滤光片与紫外镀膜[详细]
2024-09-11 18:04
安装说明
镀膜仪简介 EMS150T的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间**的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。EMS150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、ding级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略至臻wan美的镀膜品质！根据不同的应用方向，EMS150T细分为三个型号：EMS150TS：高分辨率溅射镀膜仪HighResolutionTurbomolecularPumpedSputterCoater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和。EMS150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用Z理想的选择。EMS150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型，并显示相应的操作模式。注：上述各型号都可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等触摸屏控制：EMS150T操作十分简单，直观的触摸屏，即使Z不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。镀膜插入头选项：具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料，直径57mmX0.3mm厚靶为标准靶材可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料（仅为TS和TES型号）适用于3.05mm碳棒蒸发插入头适用于6.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济碳丝蒸发插入头金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（仅为TE和TES型号）样品台选项EMS150T具有各种易更换的样品台，drop-in落入式设计具高度可调（除旋转行星台）。标准配置为旋转台,直径为50mm可预设倾斜角度的旋转台（可选）可变角度旋转行星台（可选）可用于4晶圆的平面旋转台（可选）显微镜载玻片样品台（可选）其它选项用于高样品的加高腔室膜厚监测器（FTM）用于测量低和高真空的全范围真空计特点和优点:金属溅射或碳蒸发或两者兼备：一体化设计，节约空间精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应用涡轮分子泵高真空系统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操作可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制精细的厚度控制：使用膜厚监控选项“智能”式系统识别：自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型高真空碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想蒸发电流波形控制Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台）真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空条件下保存样品镀制厚膜能力：一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用）人体工程学设计的整体成型机壳：易维护和易拆装带有本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本符合当前电器法规（CE认证）EMS150T仪器参数：仪器尺寸585mm宽*470mm*410mm高（总高650mm）重量33.4KG工作腔室150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩触摸屏用户界面带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护工作腔室150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩样品台转速为8-20rpm的旋转台真空系统涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器真空测量皮拉尼真空计作为标配极限真空度10-5mbar两级电源需求90-250V~50/60Hz1400VA（包括旋转机械泵电压240V）气体溅射工作气体氩气，99.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真空气体（可选）金属蒸发和光阑清洁头用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑碳蒸发稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳电流脉冲1-90安培溅射0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器溅射工作真空范围5*10-3到5*10-1mbar溅射靶材和碳耗材供应EMS150TS和EMS150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳EMS150T与Q150T都是英国Quorum公司生产，属于同一产品，以两个品牌模式销售，所以两个品牌的产品是完全一样的。EMS150TZG总代海德创业（北京）生物科技有限公司北京回龙观西大街115号龙冠大厦4层010-5124812052571502www.hedebio.comhedebio@163.com[详细]
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5工位自动提拉涂膜机 HAD-OV5P 5工位自动提拉涂膜机/全自动5工位恒温提拉涂膜机型号:HAD-OV5P全自动5工位提拉机用于多层薄膜涂层，Z多达到5层，广泛用于纳米材料、化工、金属、等领域。是广大高等院校、研究院所的得力仪器。特点:提拉和下降速度用触摸屏控制，可以自行设置提拉和下降速度、停留时间。在一种溶液中涂层后，自动转入下一个工序。全部工作都在恒温箱中完成。提拉速度：1mm-200mm/分钟。速度稳定性：+/-0.05%。允许Zda样品尺寸：80mmx40mmx2mm。5工位液体载样盘按照程序自动旋转。自带5个150毫升玻璃杯。自带一个卡具。恒温范围：室温-200摄氏度。500mmx500mmx1100mm,45kgs产品用途:1个样品：在5种不同的溶液中取得不同的涂层[详细]
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