Xevo TQ Absolute系统，助力痕量分析更轻松

硼酸类化合物在制药工业中应用广泛，并可能以杂质形式存在于原料药中。一些硼酸类化合物具有明显的致突变性，作为潜在基因毒性杂质，受到越来越多的关注。基因毒性杂质能在很低浓度下造成遗传物质损伤，导致基因突变并具有致癌风险。因此需要使用高灵敏度的检测方法对药品中残留的硼酸类化合物进行准确定性定量。

LC-MS/MS以其高灵敏度、高特异性的特点被广泛应用于制药行业。沃特世新推出的高性能串联四极杆质谱 Xevo TQ Absolute系统，结合 ACQUITY Premier UPLC，能够很好地实现对致突变性硼酸类化合物的痕量分析。

LC-MS/MS条件

• 色谱柱: ACQUITY UPLC Premier BEH C18 (2.1 x 100, 1.7 μm)

• 流动相：A: 0.05%氨水溶液；B: 乙腈

• MRM方法(ESI-)：

超高灵敏度快速分析

该方法在3.5 min内即可有效分离7种致突变性硼酸类化合物（图1），检测限(LOD)低至0.0025 - 0.025 ng/mL，定量限(LOQ)低至0.005 - 0.05 ng/mL（图2）。

图1. Xevo TQ Absolute检测7种硼酸化合物的色谱图。

图2. Xevo TQ Absolute分析7种硼酸类化合物的LOD(S/N ≥ 3)和LOQ (S/N ≥ 10)谱图。

超低浓度稳定检测

检测结果的稳定性与重现性对于痕量杂质分析至关重要。本方法在6天内分析0.005 - 0.05 ng/mL的低浓度LOQ样品，检测结果S/N均大于10:1，且峰面积RSD均在8.33%以内，数据稳定可重现。

表1.  LOQ样品日间重现性结果

结论

全新超高灵敏度Xevo TQ Absolute三重四极杆质谱与ACQUITY Premier UPLC联用分析痕量硼酸类潜在遗传毒性杂质，LOQ低至0.005 - 0.05 ng/mL，可高效助力制药工业，保障药品安全与质量控制。

除此之外，Xevo TQ Absolute系统在食品环境、生物分析、生物医学研究和材料化工等行业的多种应用中均有显著优势。想了解更多，欢迎扫描下方二维码，我们会尽快联系您！

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