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• 应用QCM-I监测聚合物多层膜的沉积过程

  引言 聚合物和纳米颗粒多层膜的静电驱动吸附是通过表面物理和化学转变以生成高度定制且 “智能”、环境敏感界面的一种广泛接受的方法。沉积过程可由QCM-I灵敏地进行监测，来提供多层体系水合质量以及物理结构和刚度的信息1。沉积参数的差异能极大地影响多层结构及其Z终性能。[详细]

  2024-09-28 00:05

  其它

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• 高精度耗散型石英晶体微天平原理

  带阻抗分析的石英晶体微天平 石英晶体微天平是一项构建良好且敏感的技术，用于实时测量分子、聚合物以及带传感器表面的生物组件在空气或无标记液体中的相互作用。其原理基于石英晶体传感器在覆盖薄膜或液体时共振频率的变化。 在QCM-I中，石英晶体传感器的阻抗采用网络分析仪测量，准确确定晶体共振的频率和带宽。该过程在多个频率范围内完成，以测量基频和谐波谐振。 频率变化用来确定耦合到传感器表面的水合质量，灵敏度达ng/cm3级，相当于膜厚度在nm到mm范围。共振带宽与界面处的能量耗散直接相关，给出了关于吸附层粘弹性及结构或液体粘度的信息。[详细]

  2024-09-13 14:32

  应用文章

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• 金涂布石英晶片校正

  引言 本应用报告涉及eQCM 10MTM，并假设您已经阅读且理解了《石英晶体微天平》应用报告中讲述的内容。 本文阐述一个在金电极上实现的Cu2+/Cu间氧化还原的简单实验。我们用测试结果计算晶体的校正因子。反过来，我们还展示了如何采用校正因子计算沉积物的摩尔质量。 每一个晶体都有理论校正因子。然而，在典型实验条件下，这些校正因子略有差异。我们采用Cu2+计算校正因子，然后可以用到相同晶体的后续实验中。 Cu2+还原是两电子反应： CuSO 4 (aq) + 2 e- qcm pic1Cu (s) + SO 4 2- (aq) 我们的目标是还原Cu2+到金电极上，然后用频率的降低和通过的电荷计算校正因子。[详细]

  2024-09-14 07:38

  应用文章

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• 石英晶体微天平原理

  引言 本文主要是石英晶体微天平（QCM）的原理简介，该设备能够监测电极上的微小质量变化。如果您想要了解更多更深入的关于QCM原理和应用方面的内容可以继续阅读文后列出的综述1和书籍章节2。 本文内容主要分为两大部分： • 压电效应的解释 • 等效电路模型[详细]

  2024-09-12 16:44

  课件

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