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半导体快速温变试验箱

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产品特点

半导体快速温变试验箱专为半导体行业设计,用于模拟半导体器件在不同环境温度下快速变化的场景。半导体器件在实际应用中,可能会因工作条件、环境差异等因素经历急剧的温度变化。该试验箱通过且快速的温度调控。

详细介绍

性能指标


  1. 温度范围:通常为 -60℃至 150℃。低温下限能满寒冷环境或半导体低温性能测试需求,高温上限可模拟半导体在高负荷工作状态下产生的高热环境。

  2. 升降温速率:具备 3℃/min - 20℃/min 的升降温速率选项。快速的升降温速率可模拟半导体在实际应用中因启动、停止或环境突变而经历的快速温度变化,比如在汽车启动瞬间半导体元件面临的温度骤变。

  3. 温度控制精度:温度控制精度可达 ±0.5℃。这对于半导体测试至关重要,因为半导体器件对温度极为敏感,温度控制能确保测试结果的准确性和可靠性。

  4. 温度均匀度:箱内温度均匀度保持在 ±2℃以内。保证箱内不同位置的半导体样品所处温度环境一致,避免因温度差异导致测试结果出现偏差。



结构设计


  1. 箱体材质

    • 外箱:采用优质冷轧钢板,经静电喷塑处理,不仅具备良好的防锈、耐腐蚀性能,还能增强箱体的机械强度,有效保护内部部件。

    • 内胆:选用 SUS304 不锈钢材质,其表面光滑,易于清洁,可防止在试验过程中产生杂质污染半导体样品。同时,不锈钢材质在不同温度下性能稳定,能适应频繁的温度变化。

  2. 保温系统:采用高密度聚氨酯发泡材料作为保温层,厚度一般在 80 - 100mm。这种材料具有保温性能,可有效减少热量传递,降低能耗,确保在快速温变过程中箱内温度稳定,不受外界环境影响。

  3. 风道系统:设计的风道系统,通过合理布局风机、导流板等部件,形成高效的空气循环。在快速温变过程中,能使箱内温度迅速均匀分布,保证每个半导体样品都能在相同的温度条件下接受测试。



制冷与加热系统


  1. 制冷系统

    • 制冷原理:采用复叠式制冷技术,由高温级和低温级两个独立制冷循环组成。高温级使用中温制冷剂(如 R404A),低温级使用低温制冷剂(如 R23),通过热交换器实现两级耦合,以达到深低温制冷效果。

    • 关键部件:选用国际全封闭压缩机,具备高效、稳定、低噪音的特点。搭配优质的冷凝器、蒸发器和膨胀阀等制冷配件,经过精心匹配调试,确保制冷系统在快速温变过程中高效运行,实现快速降温。


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