美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 (栅网离子源) KDC40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.

离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-10 sccm.

加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数：

伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域：

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

5. 离子蚀刻 IBE

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列应用案例:

1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺

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