美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上高/效, 提供高离子束流的无栅网离子源.

尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6“

放电电压 / 电流: 50-300V / 20A

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性：

1.水冷 - 加速冷却

2.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极

3.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率

4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便

5.高效的等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域：

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 直接沉积 DD

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