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聚束科技(北京)有限公司
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 PLD System

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详细介绍

特点

•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

•使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。

•氧化膜沉积的氧相容性。

•升级:离子辅助PLD,组合型PLD,目标衬底负载锁定。

•其他沉积源:脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射,直流离子枪。

•与XPS /ARPES特高压集群工具集成,原位特高压晶片转移。


•原位诊断:低角度x射线光谱学(LAXS)和离子能光谱学(IES)。


Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pioneer 120 Advanced PLD System系统的主要区别在于,具有更大的沉积模块,有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升级。Pioneer 180 PLD系统集成了兼容氧的辐射加热台。加热器可兼容1大气压(760托)的氧气,这是一种特性助于制备外延氧化膜,即满足了(i)沉积在氧气中,(ii)沉积后退火在氧气中,以及在接近1大气压的氧气中冷却。衬底连续旋转,并可以负载锁定。Pioneer 180 PLD系统包括一个自动多目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加热器,目标转盘,过程压力,系统泵和激光触发。由于衬底可以转移,多种选择变得可行。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如特高压溅射系统)集成,也与super高压分析系统(如XPS/ARPES等)集成。


技术参数


Pioneer240

Pioneer180

 Pioneer120A

最\大wafer 直径

8”

6”

2”

最\大靶材数量

6 个1” 或3 个2”

6 个1” 或3 个2”

6 个1” 或3 个2”

压力(Torr) *

5*10-8

5*10-9

5*10-9

真空室直径

24”

18”

12”

基片加热器

360°旋转

360°旋转

360°旋转

最\高样品温度

850 ℃

850 ℃(升级1000 ℃)

950 ℃

Turbo 泵抽速*
(liters/sec)

700

软件控制

400

软件控制

260

软件控制

计算机控制

包括

包括

包括

基片旋转

包括

包括

选件

基片预真空室

包括

选件

选件

扫描激光束系统

包括

选件

-

靶预真空室

包括

选件

-

IBAD 离子束辅助沉积

选件

选件

选件

CCS 连续组成扩展

选件

选件

-

高压RHEED

选件

选件

选件

520 liters/sec 泵

N/A

选件

-

... ...






产品优势
•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。
•使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。
•氧化膜沉积的氧相容性。
•升级:离子辅助PLD,组合型PLD,目标衬底负载锁定。
•其他沉积源:脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射,直流离子枪。
•与XPS /ARPES特高压集群工具集成,原位特高压晶片转移。
•原位诊断:低角度x射线光谱学(LAXS)和离子能光谱学(IES)。
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