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EVG®620NT 掩模对准系统(半自动/自动)
- 品牌:奥地利EVG
- 型号: EVG®620NT
- 产地:奥地利
- 供应商报价: 面议
- 北京亚科晨旭科技有限公司 更新时间:2024-04-22 09:42:19
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企业性质授权代理商
入驻年限第4年
营业执照已审核
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- 详细介绍
EVG®620 NT Mask Alignment System(semi-automated / automated)
EVG®620NT 掩模对准系统(半自动/自动)
EVG®620NT在zui小的占位面积(zui大150 mm晶圆尺寸)上提供了zui先进的掩模对准技术。
技术数据
EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称,在zui小的占位面积上结合了先进的对准功能和zui优化的总体拥有成本,提供了zui先进的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具,可提供半自动或自动配置以及可选的全外壳Gen 2解决方案,以满足大批量生产要求和制造标准。操作员友好型软件,zui短的掩模和工具更换时间以及 的 服务和支持使它成为任何制造环境的理想解决方案。
EVG620 NT或完全容纳的EVG620 NT Gen2掩模对准系统配备了集成的隔振系统,可在各种应用中获得出色的曝光效果,例如对薄而厚的抗蚀剂进行曝光,对深腔进行构图以及可比较的形貌。以及薄而易碎的材料(例如化合物半导体)的加工。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。
特征
晶圆/基板尺寸从碎片到150毫米/ 6'
系统设计支持光刻工艺的多功能性
易碎,薄或翘曲的多种晶圆尺寸的晶圆处理,更换时间短
带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿程序
自动原点功能,用于对准键的精确居中
具有实时偏移校正的动态对准功能
支持zui新的UV-LED技术
返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统
自动化系统上的手动基材装载功能
可以从半自动版本升级为全自动版本
zui小化系统占地面积和设施要求
多用户概念(无限数量的用户帐户和配方,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
先进的软件功能以及研发与全面生产之间的兼容性;敏捷处理和转换重组;远程技术支持和SECS / GEM兼容性;
附加功能:键对齐 红外对准 纳米压印光刻(NIL)
技术数据
曝光源:汞光源/紫外线LED光源
先进的对齐功能:手动对准/原位对准验证 自动对齐 动态对齐/自动边缘对齐
对准偏移校正算法:通量
全自动:批生产量:每小时180片
设备咨询电话:182 6326 2536(微信同号)
- 产品优势
- EVG®620NT在zui小的占位面积(zui大150 mm晶圆尺寸)上提供了zui先进的掩模对准技术。
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