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EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
- 品牌:奥地利EVG
- 型号: EVG®610
- 产地:奥地利
- 供应商报价: 面议
- 北京亚科晨旭科技有限公司 更新时间:2024-03-25 09:49:48
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企业性质授权代理商
入驻年限第4年
营业执照已审核
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- 详细介绍
EVG®610 UV Nanoimprint Lithography System
EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从小件到zui大150毫米
技术数据
该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键合对齐和纳米压印光刻(NIL)。
EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求,因此使其非常适合大学和研发应用。
对于压印工艺,EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外,还可以包括邮票的释放机制。 EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力,以实现高产量的印记,该卡盘支持软性和硬性印模。
特征
顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和配方控制的曝光间隙
支持zui新的UV-LED技术
zui小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和配方,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和光刻工艺之间的转换; 台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能:键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷
技术数据
晶圆直径(基板尺寸)标准光刻:zui大150毫米的碎片;柔软的UV-NIL:zui大150毫米的碎片
nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程
柔软的UV-NIL
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
设备咨询电话:182 6326 2536(微信同号)
- 产品优势
- 具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从小件到最大150毫米
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