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EVG®610 紫外线纳米压印光刻系统

联系方式:绍兵1826-3262536

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详细介绍



EVG®610  UV Nanoimprint Lithography System

EVG®610  紫外线纳米压印光刻系统

 

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从小件到zui大150毫米

 

技术数据

该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键合对齐和纳米压印光刻(NIL)。

EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求,因此使其非常适合大学和研发应用。

对于压印工艺,EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外,还可以包括邮票的释放机制。 EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力,以实现高产量的印记,该卡盘支持软性和硬性印模。

 

 

特征

顶侧和底侧对齐能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和配方控制的曝光间隙

支持zui新的UV-LED技术

zui小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和配方,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和光刻工艺之间的转换;      台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能:键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷

 

技术数据

晶圆直径(基板尺寸)标准光刻:zui大150毫米的碎片;柔软的UV-NIL:zui大150毫米的碎片

nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程

柔软的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外线LED光源

设备咨询电话:182 6326 2536(微信同号)

产品优势
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从小件到最大150毫米
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