电子束直写系统 EBPG5150

电子束直写系统  EBPG5150

自动化和高速度的电子束直写技术

电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。 

Improved Specifications

· Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz

· Extreme beam current up to 350 nA

· Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

00001. 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换

00002. 155mm的平台

00003. zui小曝光特征尺寸小于8nm

00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器

00005. 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，zui大可以到1mm

00006. GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

00007. 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

可选的系统增强升级

EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。设备咨询电话：182 6326 2536（微信同号）；