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高性能电子束曝光机EBPG5200
- 品牌:德国Raith
- 型号: EBPG5200
- 产地:德国
- 供应商报价: 面议
- 北京亚科晨旭科技有限公司 更新时间:2024-04-18 09:50:26
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企业性质授权代理商
入驻年限第4年
营业执照已审核
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- 详细介绍
高性能电子束曝光机EBPG5200
自动化高速度的高精度电子束曝光技术
EBPG5200是一款高性能的纳米光刻系统,拥有完整200mm尺寸的光刻能力,这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的解决方案,包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所,以及商业化的生产力 研发用的掩膜版制作。
同时,系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统,使用了相同的平台设计,是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。
Improved Specifications
· Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
· Extreme beam current up to 350 nA
· Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm
00001. 高束流密度,热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
00002. 200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
00003. 最小曝光特征尺寸小于8nm
00004. 高速度曝光,可采用50或100MHz的图形发生器
00005. 在所有KVs加速电压下,可连续改变的写场大小, zui可以到1mm
00006. GUI人机交互界面友好,简洁易用,适用于多用户环境
00007. 多项灵活可选择的配置,可以适用于不同应用的需求
模块化的系统架构
模块化的系统架构设计,可以让用户根据需要选择配置,可以在将来技术升级的时候,保护用户的初始投资,提供不同类型的升级策略。设备咨询电话:182 6326 2536(微信同号);
- 产品优势
- 高性能电子束曝光机EBPG5200,自动化高速度的高精度电子束曝光技术
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