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奥地利EVG掩膜光刻机EVG610

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详细介绍

产品优势
EVG610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理最大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在一分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。
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