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安智AZ 正性光刻胶厚胶 40XT

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产品优势
AZ®40 XT的应用始于15-30 µm,在这个厚度范围时,由于N2脱气和再水化延迟时间,使用常规正性光刻胶的光刻工艺变得非常耗时,而AZ®40 XT可以避免这个问题 。即使对于非常大的光刻胶膜厚度,AZ®40 XT也只需要很短的软烘烤时间,不会有再水化延迟,由于其化学放大作用,曝光剂量非常小,显影速度快。 因此,与传统的厚型光刻胶相比,AZ®40 XT的加工速度要快得多。
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