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全自动真空离子溅射仪喷金仪 直流溅射镀膜导电处理

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全自动真空离子溅射仪喷金仪 直流溅射镀膜导电处理 核心参数
靶材料: 金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属靶材 靶尺寸: Ø57*0.12mm(Au)
详细介绍



离子溅射仪CIS-200_02.jpg


产品优势
全自动真空离子溅射仪喷金仪 直流溅射镀膜导电处理优势看得见:全自动微电脑控制,更智能; 专利技术,1 0秒更换靶材; 样品台内置高度调节功能,1秒即可调节; 内置1 0步操作向导,5分钟即可熟练使用设备;
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