本产品选用抛光作用很强的金刚石微粉为原料,配以前沿的研磨辅料、研磨介质,融物理作用与化学作用于一体,与传统的抛光材料如研磨膏、氧化铝、氧化铬等相比,用金相抛光剂可使得研磨、抛光更快速、简便、高效,同时无污染,便于存放,大幅度降低成本,缩短抛光时间,并且极真实地再现材料金相组织,可替代目前普遍使用的传统抛光材料和同类进口产品。
抛光更快速、简便、高效,同时无污染,便于存放,降低成本,缩短抛光时间,减轻金相分析人员的劳动强度,并且极真实地再现材料金相组织,可替代目前普遍使用的传统抛光材料和同类进口产品。
粒度规格
规格:W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、W28、W40
适用范围
应用于黑色和有色金属、陶瓷、宝石、光学玻璃、淬火钢材、硬质合金、精密仪器仪表等材料的表面高光洁度研磨抛光。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨,钢铁中夹杂,钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织。





报价:¥75
已咨询70次磨抛耗材
报价:¥80
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报价:面议
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报价:面议
已咨询185次研磨抛光耗材
报价:面议
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报价:¥1
已咨询919次磨抛耗材
报价:面议
已咨询1950次QMAXIS磨抛耗材
报价:¥1.5
已咨询898次磨抛耗材
多效合一:在抛光过程中同步实现润滑减阻、冷却控温、防锈防护,减少试样损伤,提升抛光效率与质量。 - 产品型号:YG-L(蓝色)适合有色金属研磨抛光。 YG-H(红色)适合有色金属及黑色金属研磨抛光。 YG-L01(绿色)适合所有材料的精抛光。
产品特点 1. 优异的表面平整化 · 垫体本身具有极高的初始平面度,并能通过其微弹性变形补偿设备与工件的微观不平。 · 能够高效地实现全局平坦化,消除纳米级的高度差,这是获得超平坦表面的关键。 2. 独特的阻尼减震性能 · 特点:材料内部具有闭孔或开孔结构,能有效吸收抛光机主轴和抛光盘产生的振动。 · 优势: · 减少缺陷:极大降低“划痕”、“彗星尾”等动态缺陷的产生。 · 稳定材料去除率:使抛光压力分布均匀,确保整个工件表面的材料去除率一致。 3. 精确可控的材料去除 · 特点:其硬度、压缩比和回复率等参数经过精确设计和控制。 ·
合成微纤维聚合物抛光垫产品介绍 一、 产品介绍 合成微纤维抛光垫是一种采用高科技合成的超细纤维,通过特殊工艺紧密植绒于柔性聚合物基板上而制成的高性能抛光工具。多种硬度可选,满足您对不同材料的抛光需求,结构均匀和优秀的耐用性解决了抛光领域中 “磨削力”与“镜面效果”不可兼得的难题。 二、产品特点 1. 高效研磨与抛光: · 研磨迅速:特殊设计的纤维结构能快速去除深层瑕疵,节省作业时间。 · 出色镜面效果:细腻的表面纹理能够实现无眩光、高清晰度的完美镜面。 2. 卓越的耐用性与稳定性: · 抗撕裂:高强度基材和结构设计,延长使用寿命,降低更换频率。 · 耐热性:有
不留残余粘胶:从防粘盘上轻松取下带背胶的砂纸或抛光布,不需要清理可重复使用,提高工作效率; 节省设备费用:只需一台带一个磨抛盘的磨抛机,就能实现所有研磨抛光工序的轻松转换.
橡胶模:以硅橡胶等为主要材料,具有良好的柔韧性和弹性,便于脱模,尤其适用于一些表面不平整或对脱模要求较高的样品。
超薄精密切割片 广泛应用于半导体、集成线路、电路板(PCB)行业进行质量监控、试样分析、以及基础材料研究;适用于各种进口和国产的精密切割机;
适用范围; - 金属材料:如钢铁、铝合金、铜合金等金相试样的抛光,用于观察材料的组织结构、晶粒大小等微观特征。 - 半导体材料:如硅片、锗片等的抛光,为后续的光刻、蚀刻等工艺提供平整光滑的表面。
金相切割润滑冷却液针对金相制样切割研制,切割时能有效降低样品温度,减低样品热影响,同时能起到润滑、清洗防锈作用,让切割更顺畅提高产品表面光洁度,增加切割片的使用寿命。