等离子CLONE双模式等离子刻蚀机清洗机

介绍：

桌面式等离子清洗、蚀刻系统，等离子刻蚀&反应离子刻蚀系统

腔室结构：

型号比较：

应用：

·        刻蚀：氧化物刻蚀 RIE模式， 氮化物刻蚀RIE模式， 硅刻蚀 RIE模式， 光刻胶刻蚀 RIE模式， 聚合物（RIE+PE），二维材料 RIE

·        表面处理：亲水处理 PE模式，功能化 PE模式，粘附力增强：PE+RIE，高分子： RIE+PE

·        氧化物刻蚀

        可以实现1um以下刻蚀

·        轻刻蚀（PS-b-PMMA）

·        轻刻蚀（WSe2）

·        Parylene聚对二甲苯刻蚀

·        刻蚀一致性

·        钙钛矿太阳能电池

·        MoS2,WS2,ReS2, 减薄