磁控溅射镀膜设备 半导体设备厂家

Research-磁控溅射镀膜机，该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，特别适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。是替代钟罩式磁控溅射的理想选择。

主体结构。全封闭框架结构，机柜和主机为一体式机构。
极限真空度。≤６.６３×10－5Pa，压升率优于国家标准。   
真空配置。高速直联旋片泵一台，配置尾气处理装置，超高分子泵一台。
真空测量。两路电阻规，一路电离规；电阻规和电离规均采用防爆型金属封结真空规。
工件架系统。行星工件盘与公转工件盘可选，垂直溅射与共溅射兼容，可配置１个加热台，采用PID控制可烘烤加热到700℃。
磁控溅射系统。配置３个Φ50mm可折叠磁控靶（可扩展至4靶机构），向上溅射成膜；靶基距可调；靶内均通入冷却水冷却。
电源 。2套直流电源；1套全固态射频电源；；一套200W直流偏压电源。
充气系统。配置三路供气，二路分别配置质量流量控制器，线性±0.5 % F.S，重复精度±0.2% F.S，0-5V输出，在触摸屏上设置流量。
电气控制系统。采用功能化模块设计，匹配西门子人机界面+西门子控制单元，溅射时间可以设定，能够根据工艺需求自动溅射。
特别说明：根据用户不同的工况和工艺要求，公司愿与客户联合研发，共享知识产权，公司致力于工艺与设备的匹配，该设备为公司与电子科技大学联合研发。

       成都超迈光电科技有限公司，为国家高新技术企业、国家标准拟定单位、创新型中小企业、省专精特新企业、新经济双百企业，已通过GB/T与GJB双体系认证。

       公司致力于真空镀膜、等离子刻蚀、人工晶体材料和特殊装备的技术提升，具有全系列涂层服务装备和检测手段，已申请国家zhuanli60余项，授权zhuanli与软件著作权50余项，拟定国家标准2项，行业标准1项，为中国物理学会固体缺陷专家委员单位，全国电热装备标准化委员会单位，已形成工业级、科研级和特殊级三大产品系列，公司在南充高新区(顺庆高新区)建有超迈智能产业园，一期已完成3.5万平方米厂房和配套办公生活设施建设，具备强大的研发和制造能力。