美国KLA filmetrics膜厚仪

    美国Filmetrics光学膜厚测量仪，测量膜层厚度从15nm到450um。利用反射干涉的原理进行无接触测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是一款高性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。

Filmetrics光学膜厚测量仪：

其可测量薄膜厚度在15nm到450um之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。  

通过Filmetrics膜厚测量仪反射式光谱测量技术,可以测试4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 : 

半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。 

LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。 

光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。  

极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，在此基础之上，我们推出了

操作极其简单的入门型号F20单点膜厚测试仪，可以实现反射、膜厚、n、k值测量。

F20 系列膜厚测试仪——一款畅销的台式薄膜厚度测量系统

只需按下一个按钮，您在几秒钟同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows™系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上，我们每天从我们的客户学习更多的应用.

选择您的F20，主要取决于您需要测量的薄膜的厚度（确定所需的波长范围），下图是不同型号的膜厚测试仪测试的厚度范围以及对应选择的波长范围。

F20 的测试原理：

一束光入射到薄膜表面时，在薄膜上下表面都会发生反射，而两束反射光之间会产生干涉，干涉条纹的产生又是与薄膜的厚度，折射率等有关的，因此可以依据此来测量薄膜的厚度。