JEOL内置型等离子源 BS-80011BPG
JEOL大功率电子枪・电源EBG-300UA，JEBG-1000UB，JEBG-3000UB
JEOL 粉末供应装置TP-99010FDR
JEOL电子自旋共振谱仪 JES-X310，X320
JEOL核磁共振谱仪JNM-ECZR
JED-2300/2300F 能谱仪
JED-2300/2300F Analysis Station是以“图像观察和分析“ 为基本理念的TEM/EDS集成系统。通过与SEM的马达驱动样品台联动使用，可以进行大范围的观察和分析。 EDS通过检测被电子束激发出的样品特征X射线，确定样品含有的元素及成分比，可以进行微区的点分析、线分析及面分析。
产品特点：
· JED-2300/2300F Analysis Station是以“图像观察和分析“ 为基本理念的TEM/EDS集成系统，通过与SEM的马达驱动样品台联动使用，可以进行大范围的观察和分析。EDS通过检测被电子束激发出的样品的特征X射线，确定样品含有的元素及成分比，可以进行微区的点分析、线分析及面分析。
· JSM-6510/LA, JSM-6610A/LA 系列
· 可以在SEM图像上指定分析位置，开始EDS分析。
· VID
· 将采集的X射线谱图和Visual PeakID（VID）合成的谱图进行比较，定性结果可以通过视觉、数值判断。
· Play Back
· Play Back (回放) 功能
用JEOL制造的EDS采集的元素面分布图，不仅保存了每一帧中各个像素点的谱图，还对每一帧中电子束形成的图像进行了存储。利用Play back功能，可以进行多角度的分析如观测谱图等随时间的变化等。测试后数据能够回放，可以观察到样品按时间顺序发生的变化，这是至今为止无法实现的。此外，利用Play Back功能还可以截取任意指定的画面。
· Smile Station™ 2
· Smile Station™2功能通过在多个视野上自动进行分析，生成SEM和元素面分布图的无缝蒙太奇图像，也可以在取得的视野上进行连续的元素面分布和点分析等。（专利号4175597）
· Dry SD 检测器
· Dry SD 检测器（SDD检测器）与传统的EDS检测器不同，不需要液氮制冷。使用快速简单，同时实现了高分辨率和高计数率处理。
报价：面议
已咨询671次日本电子 JEOL 扫描电镜
报价：面议
已咨询1380次扫描电子显微镜
报价：面议
已咨询778次日本电子 JEOL 扫描电镜
报价：面议
已咨询1217次电磁流量计
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，上限可达6英寸，基板架加热温度上限可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 多达可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，多达可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，上限可达6英寸， 基板架加热温度上限可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（多达3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，上限可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度上限可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量多达 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
营业执照已审核
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