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Plasma Preen等离子清洗机
- 品牌:美国Plasma Preen
- 型号: PLASMA-PREEN II #862
- 产地:美国
- 供应商报价: 面议
- 武汉迈可诺科技有限公司 更新时间:2023-12-08 14:44:52
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企业性质生产商
入驻年限第7年
营业执照已审核
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- 详细介绍
PPC等离子清洗/去胶系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子去胶机融合了下面的特点,并在众多的应用领域中得到肯定。
产品特色
负载循环控制,模拟功率控制
处理机存储
水冷底座
减少污水排放
安全保护设计
操作简便 维护方便
应用范围:
混合电路板制造中基片的清洗
打线工艺前清洗电子部件,提高其可靠性
锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗
清洗半导体元器件
光刻胶去胶
上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备
镀膜前对光学器件清洗
清洗石英、蓝宝石及其它材料
适用工艺:
打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫;
去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物;
清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件;
塑胶密封剂去除--失效模式分析
型号
PLASMA-PREEN II #862
PLASMA-PREEN II #973
反应舱尺寸(H*W*D)
203mm x 152 mm x 50mm
229 x 178 x 76 mm
冷却面(H*W)
203 mm x 152 mm
229 mm x 178 mm
反应舱
方形舱体
方形舱体
反应舱材质
派热克斯玻璃&铝材
派热克斯玻璃&铝材
水冷式
水冷装置
水冷装置
负载比
10%至连续性
10%至连续性
标准流量
5cu-ft./Hr.@STP
5cu-ft./Hr.@STP
频率(GHz)
2.45 GHz
2.45 GHz
功率(Watts)
100至750之间调节
100至750之间调节
重量 (Kg)
29.5kg
38.5kg
自动化: | 手动 | 样品腔尺寸: | 长200×宽150×高50mm |
射频功率: | 750W | 频率: | 2.45GHz |